चीनी सेमीकंडक्टर उपकरण निर्माता प्रिनानो ने अपने पहले स्व-विकसित PL-SR सीरीज इंकजेट स्टेप-एंड-रीपीट नैनोइम्प्रिंट लिथोग्राफी सिस्टम की सफल डिलीवरी एक घरेलू विशेष प्रक्रिया ग्राहक को करने की घोषणा की है। सीस्मार्ट के अनुसार, सिस्टम ने निरीक्षण पास कर लिया है। यह 10 nm से कम लाइन चौड़ाई वाली नैनोइम्प्रिंट प्रक्रियाओं को समायोजित कर सकता है, जो कैनन FPA-1200NZ2C नैनोइम्प्रिंट लिथोग्राफी मशीन की 14 nm की क्षमता से अधिक है, जिसके बारे में दावा किया जाता है कि यह 5 nm प्रक्रिया चिप्स का उत्पादन करती है। जबकि यह PL-SR को उन्नत लॉजिक चिप निर्माण के उपकरणों की श्रेणी में नहीं रखता, यह चीनी-विकसित सेमीकंडक्टर उपकरणों के लिए एक उल्लेखनीय प्रदर्शन मील का पत्थर दर्शाता है।

नैनोइम्प्रिंट लिथोग्राफी पारंपरिक EUV प्रणालियों द्वारा आवश्यक जटिल EUV प्रकाश स्रोतों से बचती है, जिससे ऊर्जा के उपयोग और उपकरण लागत को कम किया जा सकता है। हालांकि, यह प्रक्रिया धीमी है और जटिल लॉजिक चिप्स के लिए अनुकूल नहीं है, जिससे यह NAND फ्लैश और कम जटिल डिज़ाइन वाले समान मेमोरी उपकरणों के लिए आदर्श बनती है। ICsmart ने उल्लेख किया है कि चीनी मेमोरी निर्माता Prinano’s प्रौद्योगिकी को तैनात कर सकते हैं ताकि आयातित उच्च-स्तरीय लिथोग्राफी प्रणालियों पर निर्भरता को कम किया जा सके और SK hynix और Samsung जैसे स्थापित मेमोरी लीडर्स के खिलाफ प्रतिस्पर्धात्मकता में सुधार किया जा सके।

कैनन के FPA-1200NZ2C नैनोइम्प्रिंट सिस्टम को चीन में निर्यात प्रतिबंधों के अधीन रखा गया है, जिससे विदेशी-आपूर्ति किए गए उपकरणों की पहुँच सीमित हो गई है। प्रिनानो की PL-SR सीरीज़, जो उच्च-परिशुद्धि इंकजेट कोटिंग और 20 मिमी × 20 मिमी से पूरे 300 मिमी वेफर स्केल तक समान टेम्पलेट जॉइनिंग के साथ संयोजन की विशेषता रखती है, एक घरेलू विकल्प प्रदान करती है। इसका वितरण कुछ सेमीकंडक्टर निर्माण खंडों में विदेशी आपूर्तिकर्ताओं के एकाधिकार को तोड़ने की दिशा में एक कदम का संकेत देता है, जो मेमोरी उत्पादन में प्रतिस्पर्धी परिदृश्य को संभावित रूप से नया रूप देने का कार्य कर सकता है।