Il produttore cinese di apparecchiature per semiconduttori Prinano ha annunciato la consegna con successo del suo primo sistema di litografia a nanoimpronta inkjet step-and-repeat serie PL-SR, sviluppato internamente, a un cliente domestico specializzato nei processi. Secondo Csmart, il sistema ha superato l’ispezione. Può supportare processi di nanoimpronta con larghezze di linea inferiori a 10 nm, superando la capacità di 14 nm della macchina di litografia a nanoimpronta Canon FPA-1200NZ2C, che si presume produca chip a processo di 5 nm. Pur non collocando il PL-SR nella stessa categoria delle apparecchiature per la produzione di chip logici avanzati, rappresenta un traguardo significativo in termini di prestazioni per gli strumenti per semiconduttori sviluppati in Cina.

La litografia a nanoimpronta evita le complesse sorgenti di luce EUV richieste dai sistemi EUV convenzionali, riducendo l'uso di energia e i costi delle attrezzature. Tuttavia, il processo è più lento e non adatto per chip logici complessi, rendendolo ideale per NAND Flash e dispositivi di memoria simili con design meno intricati. ICsmart osserva che i produttori cinesi di memoria potrebbero adottare la tecnologia di Prinano per ridurre la dipendenza dai sistemi di litografia di fascia alta importati e migliorare la competitività contro i leader di memoria consolidati come SK hynix e Samsung.

Il sistema di nanoimprinting FPA-1200NZ2C di Canonâ rimane soggetto a restrizioni all'esportazione verso la Cina, limitando l'accesso agli strumenti forniti dall'estero. La serie PL-SR di Prinano, che presenta un rivestimento a getto d'inchiostro ad alta precisione e un allineamento con giunzione uniforme del template da 20 mm × 20 mm fino a un'intera scala di wafer da 300 mm, offre un'alternativa domestica. La sua consegna segna un passo verso la rottura del monopolio dei fornitori stranieri in alcuni segmenti di produzione di semiconduttori, con il potenziale di rimodellare il panorama competitivo nella produzione di memoria.