ผู้ผลิตอุปกรณ์เซมิคอนดักเตอร์ของจีน Prinano ประกาศการจัดส่งเครื่องระบบพิมพ์หินนาโนอิมพรินท์แบบสเต็ปแอนด์รีพีท PL-SR ซีรีส์แรกที่พัฒนาด้วยตนเองให้กับลูกค้าที่มีความเชี่ยวชาญพิเศษด้านกระบวนการที่ในประเทศเรียบร้อยแล้ว ตามที่ Csmart กล่าว ระบบนี้ผ่านการตรวจสอบและสามารถรองรับกระบวนการนาโนอิมพรินท์ที่มีความกว้างของเส้นต่ำกว่า 10 นาโนเมตร ซึ่งเกินความสามารถ 14 นาโนเมตรของเครื่องพิมพ์หินนาโนอิมพรินท์ FPA-1200NZ2C ของ Canon ที่อ้างว่าผลิตชิปกระบวนการ 5 นาโนเมตรได้ แม้ว่าจะไม่ทำให้ PL-SR เข้าสู่หมวดหมู่เดียวกับอุปกรณ์สำหรับการผลิตชิปตรรกะขั้นสูง แต่ก็เป็นข้อที่แสดงถึงความก้าวหน้าทางประสิทธิภาพที่น่าจดจำสำหรับเครื่องมือเซมิคอนดักเตอร์ที่พัฒนาขึ้นในจีน

นาโนอิมพรินต์ลิโทกราฟีช่วยเลี่ยงการใช้แหล่งกำเนิดแสงยูวีที่ซับซ้อนที่จำเป็นในระบบยูวีทั่วไป ลดการใช้พลังงานและค่าใช้จ่ายของอุปกรณ์ อย่างไรก็ตาม กระบวนการนี้ช้ากว่าและไม่เหมาะสำหรับชิปที่มีตรรกะซับซ้อน ทำให้เหมาะสำหรับ NAND Flash และอุปกรณ์เก็บข้อมูลแบบหน่วยความจำที่มีการออกแบบไม่ซับซ้อนมากเท่านั้น ICsmart ระบุว่าผู้ผลิตหน่วยความจำของจีนอาจนำเทคโนโลยีของ Prinano มาใช้เพื่อลดความพึ่งพาของระบบลิโทกราฟีระดับสูงที่นำเข้าและเพิ่มความสามารถในการแข่งขันกับผู้นำในตลาดหน่วยความจำที่ตั้งตัวอยู่แล้วเช่น SK hynix และ Samsung

ระบบนาโนอิมพรินต์ FPA-1200NZ2C ของ Canon ยังคงอยู่ภายใต้ข้อจำกัดในการส่งออกไปยังประเทศจีน ทำให้การเข้าถึงเครื่องมือจากต่างประเทศถูกจำกัด. ซีรีส์ PL-SR ของ Prinano ซึ่งมีการเคลือบอิงค์เจ็ทที่มีความแม่นยำสูงและการจัดแนวโดยใช้แม่แบบแบบเข้าร่วมที่มีการสม่ำเสมอจากขนาด 20 มม. × 20 มม. ไปจนถึงระดับเวเฟอร์ขนาด 300 มม. แบบเต็มรูปแบบ เสนอตัวเลือกทางเลือกภายในประเทศ. การส่งมอบนี้บ่งบอกถึงก้าวสำคัญในการทำลายการผูกขาดจากผู้จัดหาต่างประเทศในบางส่วนของการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ ซึ่งมีศักยภาพในการเปลี่ยนแปลงการแข่งขันในตลาดการผลิตหน่วยความจำ.