Der chinesische Hersteller von Halbleiterausrüstungen, Prinano, hat die erfolgreiche Auslieferung seines ersten selbstentwickelten PL-SR-Serie-Tintenstrahl-Step-and-Repeat-Nanoimprint-Lithographiesystems an einen inländischen Spezialprozesskunden bekannt gegeben. Laut Csmart hat das System die Inspektion bestanden. Es kann Nanoimprint-Prozesse mit Linienbreiten von unter 10 nm aufnehmen und übertrifft damit die 14 nm Fähigkeit der Canon FPA-1200NZ2C Nanoimprint-Lithographiemaschine, die angeblich 5 nm Prozesschips produziert. Auch wenn das PL-SR nicht in dieselbe Kategorie wie Ausrüstung für die Herstellung fortschrittlicher Logikchips fällt, stellt es einen beachtlichen Leistungsmeilenstein für chinesisch entwickelte Halbleiterwerkzeuge dar.

Die Nanoimprint-Lithografie vermeidet die komplexen EUV-Lichtquellen, die von herkömmlichen EUV-Systemen benötigt werden, was den Energieverbrauch und die Gerätekosten senkt. Der Prozess ist jedoch langsamer und nicht für komplexe Logikchips geeignet, was ihn ideal für NAND-Flash und ähnliche Speichergeräte mit weniger komplexen Designs macht. ICsmart merkt an, dass chinesische Speicherhersteller die Technologie von Prinano einsetzen könnten, um die Abhängigkeit von importierten High-End-Lithografiesystemen zu verringern und die Wettbewerbsfähigkeit gegenüber etablierten Marktführern wie SK hynix und Samsung zu erhöhen.

Das FPA-1200NZ2C-Nanoimprint-System von Canon unterliegt weiterhin Exportbeschränkungen nach China, was den Zugang zu ausländischen Werkzeugen einschränkt. Die PL-SR-Serie von Prinano, die hochpräzises Inkjet-Beschichten und Ausrichten mit einheitlichem Vorlagenanschluss von 20 mm × 20 mm bis zur vollen Wafergröße von 300 mm bietet, stellt eine inländische Alternative dar. Ihre Lieferung signalisiert einen Schritt zur Durchbrechung des Monopols ausländischer Anbieter in bestimmten Segmenten der Halbleiterfertigung, was potenziell den Wettbewerb in der Speicherproduktion neu gestalten könnte.